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Die Sortierung von Metallen ist aufgrund eines Mangels und des damit verbundenen höheren Werts von Rohstoffen zu einer neuen Herausforderung geworden. In der Produktion werden Metalle oft gemischt und müssen anschließend getrennt werden. Zur Analyse des Metalls kann ein gepulstes Lasersystem verwendet werden, das ein Plasma auf der Oberfläche des Metalls erzeugt, um die Materialeigenschaften zu bestimmen (Laserinduzierte Plasmaspektroskopie LIBS). Für eine effiziente Sortierung an einem Montageband müssen die Prozesse sehr schnell sein, was hochwiederholende und hochenergetische Lasersysteme erfordert. Das Unternehmen neoLASE hat ein MOPA-System für diese Anwendung entwickelt, das Wiederholraten von bis zu Megahertz und mehr als 1 Megawatt Spitzenleistung bietet. Somit ist sehr schnelles LIBS möglich. Das Lasersystem hat eine Ausgangsleistung von bis zu 75W und erreicht mehrere Millijoule Pulsenergie. Die Pulsdauer ist von weniger als 1 ns bis 100 ns einstellbar. Neben LIBS eignet sich das System auch für andere spektroskopische Anwendungen oder Laserentfernungen.

Laser-Optik-Systeme für Kristallisation, Annealing, Aktivierung und Lift Off INNOVAVENT Laser-Optik-Systeme für Kristallisation, Annealing und Aktivierung von Halbleitern werden modular zusammengestellt und in enger Zusammenarbeit mit Systemintegratoren für Prozesse und Endkunden entwickelt und hergestellt. Die Produktpalette reicht vom einfachen Optiksystem zur Erzeugung eines Linienfokus mit einer Laserquelle bis zu komplexen Subsystemen, bestehend aus Laser, Homogenisiereroptik, Abbildungsobjektiv und Strahldiagnostik. VOLCANO® Laser Optik verwendet zylindrische Optik für die Fokussierung und Abbildung von Gauß-Strahlen. Insbesondere werden damit lange Linien bis 250 mm Länge erzeugt, die in der Scanachse eine Halbwertsbreite von 20-50 µm oder mehr haben können. Für die zylindrische Abbildung werden INNOVAVENT FALCON® Objektive eingesetzt. In der VOLCANO® Laser Optik werden Laser mit der Wellenlänge 515 nm oder 532 nm (G-Version) und 343nm oder 355nm (UV-Version) verwendet. Die VOLCANO® LB (LINE BEAM) Laser Optik erzeugt eine gaußförmige Linie mit einer Breite von 20-50 µm FWHM mit einer Länge von 300-750mm bis zu 1000mm. In der G-Version wird Laserlicht der Wellenlänge 532 nm über Lichtleitfasern mit hohen Leistungen in das Optikmodul geführt. Diese Methode erlaubt mehrere Festkörperlaserquellen zu kombinieren und eine Energiedichte von >500 mJ/cm² in einer 750 mm langen Laserlinie zu erzeugen. Mit dieser Liniengeometrie können 50-70nm a-Si Schichten in p-Si-Schichten umgewandelt werden, die in der Fertigung von hochauflösenden OLED und LCD TFT Back Plates benötigt werden. Über Freistrahl Homogenisieroptikkopplung werden 343nm UV Laserquellen kombiniert. Die VOLCANO® UV Laser Optik wird mit gepulsten UV-Festkörperlasern betrieben. Das gepulste UV-Laserlicht eignet sich Kunststofffilme von Glassubstraten zu lösen (Laser Lift-Off). Darüber hinaus ist die Verwendung dieser Laserquellen geeignet den ELA (Excimerlaser Annealing) Kristallisationsprozess mit regelmäßigen p-Si Kornstrukturen nachzubilden und in der Herstellung hochauflösender OLED Displayfertigung einzusetzen. Die Produktgruppe LAVA® Laser Optik verwendet sphärische Abbildungsobjektive. Das CaF Hochleistungsobjektiv EAGLE® plus ist frei von thermischen Linsen und ermöglicht 2-dim scharfe Linien in einem Bildfeld bis 10 mm Durchmesser. Das Objektiv ist für IR (1064nm) und für die grüne Wellenlängen 515nm und 532nm verfügbar und eignet sich für gepulste Laserquellen und cw-Laserquellen. Für Großfeldbelichtungen bis 9 zur Herstellung von Speicherchips wurden 2x und 2,5x LAVA Objektive mit einer numerische Apertur von 0,05 und einem Bildfeld bis 45mm Durchmesser entwickelt. Homogenierer-Beleuchtungssysteme erlauben mehrerer Laserquellen zu multiplexen, so dass große Energiedichten bis 1 J z. B. mit lampengepumpten Nd:YAG Laserlichquellen erzeugt werden können. Die homogenisierten Felder erreichen eine Homogenität von besser als 1 Sigma=2%. VOLCANO LB 750UV-6, Linienstrahloptik, die bis zu 6x TruMicro 8320 (180W, 10kHz, 15ns, 343nm) Laser kombiniert. AFM-Bild der regelmäßigen p-Si Struktur erzeugt mit UV-SLA (Solid State Laser Annealing). Homogene Lichtbeugung einer SLA belichteten a-Si-Beschicht

Das CinLine-Tool ist ein kompaktes und einzigartiges Werkzeug zur Messung von Strahlprofilen von cw- und gepulsten Laser-Systemen im UV- bis NIR-Spektralbereich. Dieses System umfasst einen speziell konzipierten Diffusionsschirm und den kamerabasierten CinCam CCD/CMOS-Strahlprofiler mit einer leistungsstarken Bildgebungsoptik. Die ausgeklügelte Screen-Architektur ermöglicht eine streifenfreie Strahlprofilerstellung insbesondere von Laserlinien, Rechteckprofilen oder Laserstrahlen mit großem Durchmesser. Spektrale Antwort: 320-1150nm (andere auf Anfrage) Technologie: CCD / CMOS Eingangsleistung: bis zu 500mW Eingangsintensität: bis zu 10W/cm Strahlweite: bis zu 40mm (abhängig vom Modell) Schnittstelle: FireWire 1394 b / USB / GigE

Neben der taktilen und der pneumatischen Messtechnik liefert die Exaktmess GmbH auch die optische und die Lasermesstechnik in Ihren Messvorrichtungen und Anlagen. Die Lasermessung wird hierbei für flexibles Messen und Scannen von Werkstücken eingesetzt. Neben der Flexibilität überzeugt die optische bzw. Lasermessung durch die hohe Genauigkeit und den großen Messbereich. Optische bzw. Lasermesssysteme werden nach genauer Untersuchung und Beurteilung des Umfeldes und der Prüfbedingungen, in Absprache mit den Kunden, in die Messanlagen integriert.

Unsere optischen Spiegel bieten eine exzellente Reflexionseffizienz und sind perfekt für Anwendungen, bei denen präzise Lichtlenkung notwendig ist. Sie kommen in der Lasertechnik und in optischen Messsystemen zum Einsatz.

vollautomatisierte, optische Vermessung von Aufschweissteilen CNC-Gesteuerte Vermessung Messgenauigkeit +/- 0,01 mm Messkopf mit Winkelverstellung & Kollisionsschutz Protokollierung der Messungen

Basierend auf hohen Qualitätsstandards bietet neoLASE kompakte, industrielle Kurzpuls-Lasersysteme, kundenspezifische Laser-Lösungen und OEM-Laser-Komponenten. Durch einen modularen Aufbau wird eine Vielzahl von verschiedenen Laserparametern und elektronischen Funktionen auf standardisierten Systemplattformen ermöglicht.

Unsere Laseroptiken sind speziell für den Einsatz in Hochleistungs-Lasersystemen konzipiert. Sie gewährleisten eine präzise Strahlführung und hohe Beständigkeit gegenüber Laserstrahlung.

Unsere Kollimatoren sind unverzichtbar in der Lichttechnik und ermöglichen eine parallele Strahlführung für Anwendungen in der Lasertechnik und in optischen Messsystemen.