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Pressluft- und Wasserschlauch NR/SBR, schwarz, Temperaturbereich -20 °C bis 70 °C, Schlauch-ø 17x9, PN max. 20 bar, Rolle à 50 m Artikel-Nr.: 114587 Typen-Nr.: 180/9

Hochwertige Sputtertargets aus multikristallinem Silicium gefertigt nach Kundenwunsch in Form und Material, direkt vom Hersteller. Wir fertigen hochwertige Sputtertargets aus multikristallinem Silicium frei nach Kundenwunsch. Dank unseres umfangreichen Lagers können wir neben Standardmaterialen (z.B. p-Typ/Bor-dotiert) auch exotische Spezifikationen (z.B. n-Typ/Phosphor-dotiert) anbieten. Ob rund oder eckig, segmentiert oder monolithisch, geschliffen oder poliert, gefast oder mit Radius, ... wir fertigen direkt nach Kundenwunsch Einzelteile oder Serien anhand von Zeichnungen, CAD-Files oder Maßangaben. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage. a) Material: Silicium, multikristallin b) Reinheit: mind. 5N (99,999 %) c) Leitungstyp/ Dotierung: p-leitend/ Bor-dotiert (weitere auf Anfrage) d) spez. Widerstand: ca. 0,01 Ωcm / ca. 1 Ωcm e) Toleranzen: nach DIN ISO 2768 mk oder Vorgabe f) Prüfbescheinigung/ Analyse: nach DIN EN 10204 auf Anfrage

Vielseitige, lokale oder externe Anzeige des Systemdrucks für hochreine Anwendungen. Merkmale Modell IPS100 Druckschalter mit 50-mm-Anzeige • 50-mm-Halbleiterschalter aus Edelstahl mit lokaler und externer Alarmfähigkeit • Elektronischer Schalter mit einstellbarem Druckschaltsollwert zur Ansteuerung von Leuchten oder Relais mit bis zu 12 W • Logikausgänge: Zweipunkt und Typ 1 (0 bis 9-30 V DC), Typ 2 (8 bis 30 V DC) und Typ 3 (0 bis 5 V DC) • Verfügbar mit vielfältigen Prozessanschlüssen, Druckbereichen und Sockelausrichtungen Modell IPS122 Drucktransmitter mit 50-mm-Anzeige • 2-Zoll-Transmitter aus Edelstahl • Druckbereiche: bis zu 275 bar • Genauigkeit: 1 % des Endwerts • Industrienormausgang: 4 bis 20 mA, 0 bis 5 V DC, 1 bis 5 V DC Vorteile • Die Konstruktion aus Edelstahl 316L widersteht rauen Einsatzbedingungen • Verfügbar mit vielfältigen Prozessanschlüssen, Druckbereichen und Sockelausrichtungen zur Anpassung an die Anwendungserfordernisse • Strombetriebene Modelle unterstützen elektrische Standardausgänge für ein komfortables Anschließen Anwendungen Für die Halbleiterverarbeitung verwendete Gasversorgungssysteme und -geräte, wie: • Gasspeicher • Gassteuerschränke • Gasverteilungsnetz • Solarkollektoren • Prozesse: Nahrungsmittel und Getränke, Pharma, Wasseraufbereitung und Gasspeicher

Bei der Herstellung von Präzisions- und Mikrostrukturen gewinnt die fertigungsnahe Qualitätsüberwachung immer mehr an Bedeutung. Für die industrielle Praxis werden prozesstaugliche Mess- und Prüfverfahren benötigt, die fertigungsbedingte Form- und Oberflächenfehler an Bauteilen zuverlässig und zeitnah beurteilen können. Der Fokus der FuE-Aktivitäten liegt deshalb auf der Qualifizierung optischer Mess- und Prüfverfahren zur Sicherung der Produktqualität unmittelbar im Herstellungsprozess oder in deren Umfeld. Die FuE-Projekte im ITW zielen auf die Entwicklung von Makro- und Mikromessverfahren zur Erfassung von Abständen, Formen und Rauheiten auf technischen Oberflächen Erforschung und Einsatzerprobung mikrooptischer Geometriesensoren für eine prozessintermittierende Qualitätsprüfung Entwicklung und Validierung neuartiger Methoden zur Erfassung, Verarbeitung und Auswertung von Messdaten Erstellung prozessintegrierbarer Mess- und Prüfkonzepte, basierend auf Einzel- oder Kombinationslösungen, für eine 100%-Kontrolle mit dem Ziel einer Nullfehler-Fertigung

ØS [mm]: 60 Kolben [mm]: 100 Hub [mm]: 300 L [mm]: 495 ØI [mm]: 33 C [mm]: 88 F: M33x2 LF [mm]: 43 Artikelnummer: KS060/100x300