chemische gasphasenabscheidung (cvd) & chemische gasphaseninfiltration (cvi)

Die chemische gasphasenabscheidung (CVD) ist ein thermisch induzierter Prozess zur Herstellung von dünnen Schichten verschiedener Materialien auf einer Substratoberfläche durch chemische Reaktion von Gasen. Diese Technologie ermöglicht die Produktion hochwertiger Filme mit präziser Kontrolle über Dicke und Zusammensetzung und wird häufig in der Halbleiterindustrie sowie in der Herstellung von optischen und elektronischen Geräten eingesetzt. Die CVD-Technologie bietet die Möglichkeit, eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Halbleitern, Metallen, Keramiken und Diamantbeschichtungen, herzustellen. Die Chemische Gasphaseninfiltration (CVI) wird zur Herstellung von Keramikmatrix-Verbundwerkstoffen (CMCs) verwendet, indem Kohlenstofffasern oder andere Verstärkungsmaterialien mit keramischen Vorläufern infundiert werden. Dieser Prozess ermöglicht die Herstellung von CMCs mit komplexen Formen und hohen Festigkeits-Gewichts-Verhältnissen, die in der Luft- und Raumfahrt-, Verteidigungs-, Halbleiter- und Energieindustrie eingesetzt werden. Unsere maßgeschneiderten CVD- und CVI-Anlagen bieten flexible Lösungen für Pilot- und Produktionsmaßstäbe.