Siliziumgitter

Für Anwendungen im Bereich der Optik und Elektronenoptik fertigen wir sehr präzise Siliziumgitter. Diese Gitter bestehen aus Siliziumstegen mit hohem Aspektverhältnis, die große Flächen überspannen. Das hohe Aspektverhältnis in Kombination mit dem hohen E-Modul von Silizium erlaubt es hierbei mechanisch sehr stabile Gitter zu realisieren. Wir fertigen die Gitter aus einkristallinem Silizium. Daher besitzen sie keine mechanischen Spannungen und sind sehr formtreu. Durch die Fertigung der Gitter mit Hilfe von Ätzprozessen können wir sie gratfrei herstellen. Darüber hinaus können wir durch weitere Bearbeitung konvexe Kanten zusätzlich abrunden, was bei Anwendung der Gitter mit hohen elektrischen Feldern wichtig sein kann. Weitere wichtige Eigenschaften sind die chemische Resistenz und dadurch die Einsetzbarkeit für biologische und medizinische Anwendungen, sowie die hohe thermische Stabilität. Anwendung: Ideale Anwendungsgebiete für Siliziumgitter sind die Ionen- und Elektronenoptik, Röntgenoptik, UV-Optik und Biologie. Durch die hohe mechanische Stabilität der Siliziumstege können Energiefilter mit sehr hoher Transmission gebaut werden. Die Gratfreiheit ist für diese elektronenoptische Anwendung ein weiterer wichtiger Aspekt. Durch eine zusätzliche Beschichtung der Gitter mit Röntgenstrahlung absorbierenden Materialien lassen sich Streustrahlungsfilter realisieren. Im Bereich biologischer Anwendungen können mit Siliziumgittern beispielsweise Zellsiebe realisiert werden. Spezifikationen: Maximale Gitterfläche: ca. 100 mm Minimale Stegbreite: ca. 1µm Aspektverhältnis der Stege: bis 15 Ebenheit: 0.3µm / mm Maximale Temperatur: einige 100°C Positionstoleranz: < 1µm Strukturtreue: ~ 1µm